高纯度晶体硅材料也广泛应用于半导体行业-重庆摩尔水处理设备有限公司

　　活性硅(单体硅)和胶体硅(多元硅)以两种形式存在：胶体硅没有离子特性，但规模相对较大，胶体硅可以被精细的物理过滤过程拦截，如反渗透，也可以通过凝结技术降低水含量，如混凝澄清池，但那些需要依靠离子电荷特性的分离技术，如离子交换树脂和连续电去离子过程(CDI)，去除胶体硅的效果非常有限。
　　活性硅的尺寸远小于胶体硅，因此大多数物理过滤技术，如混凝澄清、过滤和气浮，不能去除活性硅。有效去除活性硅的过程是反渗透、离子交换和连续电去离子过程。
　　近年来，随着全球石油、煤炭等化石能源的枯竭，太阳能变得越来越重要。清洁新能源，全球太阳能产业进入快速发展时期。同时，高纯度晶体硅材料也广泛应用于半导体行业。随着全球太阳能产业和半导体产业的快速发展，实验室纯水设备对硅片的需求急剧增加。在硅片加工过程中，高达50%~52%的晶体硅以硅粉的形式丢失。含硅废水中的硅粉非常薄，粒径在0.1~1mm范围内。大部分小颗粒悬浮在水中，难以沉积。即使静置半年以上，含硅废水仍处于浑浊状态。
　　由于硅废水中硅粉颗粒较小的纯水设备，过滤处理后的水浊度仍较高，难以达到排放标准，过滤效率低，滤布更换周期短，成本高。
　　目前，硅片加工企业的硅废水处理方法，主要是按照含有一般悬浮物的废水处理方法进行处理，即添加絮凝剂（如聚合氯化铝、聚合氯化铁、聚丙烯酰胺等）。是含硅废水的絮凝沉淀，然后压滤固液分离。硅废水处理方法效率低、成本高、处理效果差。
　　鉴于现有技术的缺点和不足，有一种含硅废水的除硅处理工艺。含硅废水处理工艺简单，处理过程中不需要添加化学物质，以免二次污染环境。除硅处理率高达99%，可用于大规模处理。含硅废水经以下方法处理后，出水量可稳定达标。
　　（1）将硅原水收集到原水收集池中，用提升泵将硅原水泵电解到电解槽中，然后将电解水放入沉淀池中，自然静态分层。
　　（2）排出电解自然分层处理后的下沉淀物，回收或排出分层处理后的上清液；在电解过程中，在电能的作用下，阳极缓慢溶解，产生Al、Mg等离子体聚合产生多种羟基络合物、多核羟基络合物和氢氧化物。颗粒水解聚合物具有正电荷，比游离水合铝离子更能吸收污染物杂质的负电荷表面，使废水中的胶体杂质和悬浮杂质凝结沉淀，通过网络捕获去除硅，带电污染物颗粒在电场游泳，部分电荷被电极中和，促进其稳定沉降，然后通过电中和去除水中的硅。

高纯度晶体硅材料也广泛应用于半导体行业

打造全球水处理设备领军企业